高精度镀——RF离子源

国泰真空全自主研发几年时间

设计出GTRF-17和GTRF-23两款大功率RF离子源,

提供高质量薄膜和稳定的工艺操作。

打破了国外市场对国产镀膜行业的技术封锁,同时也激励了国内的同行制造业。

RF离子源-首先使用13.56MHz高频信号激励电离子体,

产生等离子体,然后分别抽出离子、电子,

让其在空间内中和形成等离子体的高能离子源。

主要运用于高度控制的光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积

国泰真空设计制造的RF离子源利用多层立体栅网确保离子束方向性,支持离子束流和能量分别独立控制。

具有工作时间长,能量高,均匀区大,污染小等优点。

水煮15分钟,曲线无基本变化;镜片粘拉后未发现膜掉情况

射频离子源通过改进能量和电流的均匀度,

提高了膜层的堆积密度和材料的氧化度。

抑制温度漂移、波长漂移以及解决了膜层牢固度和膜料折射率等问题。

适用于半导体、航天、光通讯、医疗、传感器等多个高端镀膜应用。